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清溢光電：已實現(xiàn)180nm工藝節(jié)點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量產(chǎn)

2023-09-13 14:41:17

清溢光電9月13日在互動平臺表示，半導體芯片掩膜版技術方面，公司已實現(xiàn)180nm工藝節(jié)點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量產(chǎn)，正在開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。

責編 姚祥云

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